国产光刻机具体国产率说实在的我不清，但一定不会很高！

现有量产机型国产化率不高首先光刻机所需要的零配件非常多，数以万计，同时对精度要求也相当高，即便是荷兰ASML也是全球采购才能制造。以我国现在的设备制造水平想要完全使用国产配件生产光刻机是不现实的，根本做不到！

目前国内最先进的量产机型上海微电子的90nm光刻机主要零配件还是以进口为主，不夸张的说这机型就是照着人家ASML的光刻机给模仿出来的。

因此，这个国产化率肯定不会很高。

核心子系统全部自研突破但在过去的几年中，我国光刻机整体的水平还是在快速上升，尤其是光刻机中的一些核心子系统（提升光刻机的整体性能这些子系统不可或缺），这些核心相关设备我们都在自主研发，并且已经取得了重大突破，甚至部分领域成为全球第二、第三。

双工件台：工件台主要用来让光刻机对晶圆进行蚀刻曝光，是最核心设备之一！双工件台可以大幅度提高光刻机生产效率以及精度，一个专用于运行制造，另一个则进行前期准备工作。荷兰是第一个研发出双工件台的厂商，而我们则是全球第二，目前由北京华卓精科生产，早前研发时有清华团队一起参与。

光学系统：这也是光刻机的核心部分，现阶段国内主要由两家研究所负责：长春光机和上海光机，前者负责物镜系统，而后者负责照明系统。有消息称长春光机已经在研制EUV曝光机，这是高端光刻机必备的系统，可以实现极紫外光刻。

准分子激光光源：这也是相当重要的部分，此系统由中科院光电研究院组织上光所，广电所、安光所、长光所等机构一同研发（下图为原理机），具体生产制造则是由科益虹源这家激光设备制造商负责。这个领域内之前仅有美日两家企业能生产准分子激光光源，目前我们算是第三家。

浸液系统：目前我国在研发的光刻机为沉浸式光刻机，这需要配套有专门的浸液系统，早前研发出对应技术的只有荷兰ASML和日本尼康，现在我们也拥有了对应的生产制造商，也就是排名全球第三。这套系统同样是高等学府和厂商合作研发，也就是浙大和浙江启尔机电，属于28nm光刻机的核心设备之一。

以上可以看出我国对光刻机是非常重视的，以上各个子系统基本属于我国2008年时启动的02专项（极大规模集成电路制造装备及成套工艺）项目，由中科院牵头组织一批研究机构攻关光刻机的核心子系统。

国产化率多少并不重要其实个人认为一台光刻机是否要提升国产化率并不重要，只要在核心子系统以及零部件上取得突破就可以了，剩下的一般来说欧美这边也不会给你卡脖子了。

而且有些配件事实上并非一定要国产化，一些大路货产品使用的原则是哪里便宜又好用就用谁的。就比如圆珠笔芯这种玩意，根本没必要去自主研发，这东西厂商研发出来对国内厂商来说利润太小了，而且从技术角度出发并无太大价值。

Lscssh科技官观点

现阶段光刻机最重要的光学系统、曝光光源等相继被攻克，这基本也意味着我国光刻机的国产化和整体水平将会有一个较大的提升。最新消息显示，上海微电子的28nm光刻机将于年底下线，这也是我国十三五规划的重要项目之一。

虽然我们现在和荷兰光刻机的水平差距不小，但相信未来我们一定能赶上！

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看了这么多新闻，个人觉得阿斯麦尔的光刻机里，基本没有中国元件。

目前的ASML公司的光刻机25%技术配件来自于美国，这是为什么美国如此霸气，说不给华为用就不给，荷兰要是不听话，美国断供他就废了。

其次，像是蔡司这些公司也都是行业里的顶尖公司，国内还有哪家公司能做到技术顶尖极致，而光刻机恰恰集成了全世界最先进的半导体技术。

所以个人觉得，光刻机有国内技术的可能性极低，甚至可以说基本没有。